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第一卷 第5章 等离子能量微投影系统

    第一卷 第5章 等离子能量微投影系统 (第2/3页)

说了。我们现在最缺的就是光刻机相关的科技。”林奕听到这话,心中一喜,表面却装作平静。

    “光刻机?那是什么?”苏清宁皱了皱眉,语气中带着疑惑。

    “废土世界的科技水平不是很高吗?光刻机你都不知道?”林奕愣了一下,忍不住问道。

    “我们废土世界的科技体系和你们的世界不同,用的术语也完全不一样,所以你最好解释清楚。”苏清宁白了林奕一眼。

    “哦,对对对,可能是叫法不一样!简单来说,光刻机就是制造芯片的关键设备,芯片知道吧?它是现代电子设备的核心,没有芯片,电脑、手机、智能设备全都玩不转。而光刻机就是用来生产芯片的工具。”林奕一拍脑门,恍然大悟。

    “嗯,听起来是基础工业科技……”苏清宁若有所思地点了点头。

    “基础可不简单!这个技术已经被国外卡脖子很多年了,我们国家现在最迫切的需求就是突破光刻机技术,尤其是高精度的。”林奕打断她。

    苏清宁听完,眉头微微一挑,似乎对“卡脖子”这种说法有些不解,不过她并没有深究,而是若有所思地自言自语:“原来你说的是等离子能量微投影系统?”

    “等离子能量微投影系统?”林奕重复了一遍,光是名字就让他觉得高大上。

    “这是我们废土世界用来制造纳米级设备的核心技术。听你描述的功能,应该和你们的光刻机差不多。不过,我们的技术早已超越传统的物理光学成像,改用等离子能量进行三维投影制造。”苏清宁淡淡说道。

    “这玩意儿听起来比光刻机牛多了吧!直接纳米级制造?三维投影?”林奕听得目瞪口呆,忍不住脱口而出。

    “等离子能量投影系统的核心技术,不是传统的光学或者电子束,而是利用高能等离子体在纳米级材料上的能量激发。通过等离子场的精准调控,我们可以直接将三维投影的设计数据传递到材料上。整个过程不需要光刻掩膜或者多层曝光,效率远高于你们所谓的光刻机。”

    

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